Benkard: Patentgesetz
Beck C. H.
SKU: ISBN 978-3-406-72789-4
Benkard: Patentgesetz
Beck C. H.
SKU: ISBN 978-3-406-72789-4
Patentgesetz
von: Georg Benkard
(Herausgegeben von: Klaus Bacher, Stefan Kettler)
Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
229,00 € Gebundene Ausgabe
ISBN: 9783406727894
Verlag: Beck C. H.
Auflage: 12. Auflage
Jahr: 2023
Umfang: 2600 Seiten
Einband: Gebundene Ausgabe
Sprache: Deutsch
Zum Werk:
Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.
Vorteile auf einen BlickErläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und PraktikerGründliche Darstellung nach deutschem KommentarstandardMitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes
Zur Neuauflage:
Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.
Zielgruppe:
Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.
von: Georg Benkard
(Herausgegeben von: Klaus Bacher, Stefan Kettler)
Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
229,00 € Gebundene Ausgabe
ISBN: 9783406727894
Verlag: Beck C. H.
Auflage: 12. Auflage
Jahr: 2023
Umfang: 2600 Seiten
Einband: Gebundene Ausgabe
Sprache: Deutsch
Zum Werk:
Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.
Vorteile auf einen BlickErläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und PraktikerGründliche Darstellung nach deutschem KommentarstandardMitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes
Zur Neuauflage:
Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.
Zielgruppe:
Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.